[发明专利]掩膜生成模型训练方法、掩膜生成方法及装置和存储介质在审
| 申请号： | 202311005424.2 | 申请日： | 2023-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN116720479A | 公开（公告）日： | 2023-09-08 |
| 发明（设计）人： | 马星宇;郝少刚;张胜誉 | 申请（专利权）人： | 腾讯科技（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398;G06F30/392;G06V10/774;G06V10/82;G06N3/0455;G06N3/0464;G06N3/08 |
| 代理公司： | 北京励诚知识产权代理有限公司 11647 | 代理人： | 熊金凤 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请提供一种掩膜生成模型训练方法、掩膜生成方法及装置和存储介质，包括：获取训练样本集，一训练样本包括芯片样本的目标版图和目标版图的掩膜，针对至少一训练样本，以芯片样本的目标版图作为掩膜生成模型的输入，得到目标版图的预测掩膜，将目标版图的预测掩膜输入光刻物理模型，得到该预测掩膜对应的晶圆图案，根据芯片样本的目标版图包括的多个图形的周长之和与目标版图的预测掩膜的周长，确定目标版图的预测掩膜的复杂度，根据芯片样本的目标版图、目标版图的预测掩膜对应的晶圆图案、目标版图的掩膜、目标版图的预测掩膜和目标版图的预测掩膜的复杂度，对掩膜生成模型的参数进行调整，直到满足停止训练条件，得到已训练的掩膜生成模型。 | ||
| 搜索关键词： | 生成 模型 训练 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于腾讯科技（深圳）有限公司，未经腾讯科技（深圳）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202311005424.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
