[发明专利]光刻设备的对准运动台和光轴Z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质在审
| 申请号： | 202310961545.8 | 申请日： | 2023-08-02 |
| 公开（公告）号： | CN116931393A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 张光彩 | 申请（专利权）人： | 上海图双精密装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海互顺专利代理事务所(普通合伙) 31332 | 代理人： | 韦志刚 |
| 地址： | 201208 上海市浦东新区中国(*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及光刻设备领域，公开了一种光刻设备的对准运动台和光轴Z轴垂直度校准方法、装置、设备及存储介质。该方法包括：晶圆设置标记点，视场中心对准标记点；晶圆移动时，获取晶圆的移动量△Z；标记点在视场中的位置发生了偏移，计算得到标记点在视场的位移量s；计算运动台偏角α，完成对准运动台Z轴平行度调校。本发明采用被校模块本身作为测校模块，通过控制对准运动台模块和对准相机模块作为测校模块，通过机器视觉算法对标记位移和方向判别可计算出运动台Z轴和对准相机光轴的偏转角度和方向，对于运动台Z轴的校准精度可达1.15μrad，对准相机光轴校准精度可达约575μrad。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 对准 运动 光轴 垂直 校准 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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