[发明专利]一种真空镀氧化铝膜的均匀供气装置在审
| 申请号： | 202310943157.7 | 申请日： | 2023-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN116695061A | 公开（公告）日： | 2023-09-05 |
| 发明（设计）人： | 李泽仁;周欢;占申国 | 申请（专利权）人： | 上海宇泽机电设备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/24 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201500 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种真空镀氧化铝膜的均匀供气装置，包括下模具和上模具，下模具上表面开设有凹槽，凹槽上表面开设有主腔体，上模具固定安装在凹槽内并对主腔体顶部进行密封，且上模具顶部贯穿开设有进气孔，下模具壳体顶部靠近凹槽边缘处开设有若干排气孔，若干排气孔内均设置有气压调节机构，在主腔体的分布效能下，较均匀的气体通过二级通道进入排气孔，在排气孔内设置有阻尼膜片，针对不同浓度的氧气可以调节膜片的孔径来使得输出气体均匀化；同时，气体流过阻尼膜片的匀气孔，进入输出管路内气体的动压相对于主腔体增加了，同时增加了缓冲间隙内的气体静压，实现气体均匀输出性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 氧化铝 均匀 供气 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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