[发明专利]用于化学机械抛光的抛光组合物及其制备方法、用途在审
| 申请号： | 202310888528.6 | 申请日： | 2023-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN116925648A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 张兵;牟健 | 申请（专利权）人： | 深圳市拉达特科技有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 | 代理人： | 庄华红 |
| 地址： | 518034 广东省深圳市福保街道明月*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及半导体制造用化学试剂的领域，具体公开一种用于化学机械抛光的抛光组合物及其制备方法、用途。该抛光组合物按重量份数计由以下原料组成：氧化铈颗粒0.05～2.0份、水溶性共聚物0.001～10份、分散剂0.007～3份。本发明提供的抛光组合物，氮化硅薄膜的去除率保持在较低水平，同时氧化硅薄膜有足够高的去除率，该抛光组合物适用于在半导体器件制造工艺中STI结构的高度平坦化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 抛光 组合 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
暂无信息
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