[发明专利]二次电子发射系数确定方法和装置在审
申请号: | 202310822095.4 | 申请日: | 2023-07-05 |
公开(公告)号: | CN116818819A | 公开(公告)日: | 2023-09-29 |
发明(设计)人: | 徐焱林;聂翔宇;杜嘉余;王思展;刘业楠;王志浩 | 申请(专利权)人: | 北京卫星环境工程研究所 |
主分类号: | G01N23/2251 | 分类号: | G01N23/2251 |
代理公司: | 北京志霖恒远知识产权代理有限公司 11435 | 代理人: | 郭栋梁 |
地址: | 100094 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请公开了一种二次电子发射系数确定方法和装置。所述方法包括:获取样本材料的多个二次电子参数;二次电子参数用于表征材料样品接受电子辐照后产生的二次电子数量,不同的二次电子参数是基于不同的电荷检测方式确定的;根据多个不同的二次电子参数得到材料样品的多个候选二次电子发射系数;确定多个候选二次电子发射系数之间的偏差值,根据偏差值对多个候选二次电子发射系数的进行有效性判断,并根据判断结果确定目标二次电子发射系数。采用本方法能够实现对二次电子发射系数的准确度和有效性的确定,避免单一方式测量导致的二次电子发射系数准确度不确定的情况。 | ||
搜索关键词: | 二次电子 发射 系数 确定 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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