[发明专利]一种碱性清洗液的制备方法在审
| 申请号： | 202310795374.6 | 申请日： | 2023-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN116814341A | 公开（公告）日： | 2023-09-29 |
| 发明（设计）人： | 王溯;马丽;张怡;邢乃观;程鑫 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/66 | 分类号： | C11D1/66;C11D3/20;C11D3/30;C11D3/34;C11D3/60 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 蒲小秋;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种碱性清洗液的制备方法。本发明的碱性清洗液的制备方法包括如下步骤：将所述的碱性清洗液中的各个组分混合，得到所述的碱性清洗液；所述的碱性清洗液的原料包括下列质量分数的组分：0.01‑30％有机碱、0.001‑4％酸、缓蚀剂、螯合剂、表面活性剂以及水，水补足余量，各组分质量分数之和为100％；所述的表面活性剂为非离子型双子表面活性剂；所述的有机碱与所述的酸的质量比为(12‑18):1。采用本发明的碱性清洗液的制备方法制得的碱性清洗液具有如下的一个或多个优点：具有较好的清洗效果，可以抑制半导体晶圆的损伤，具有较好的BTA清除效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 清洗 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新阳半导体材料股份有限公司，未经上海新阳半导体材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310795374.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
