[发明专利]一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法和装置在审

专利信息
申请号: 202310774626.7 申请日: 2023-06-28
公开(公告)号: CN116766577A 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 蔡王灿;齐习猛;吴琪;曹航超 申请(专利权)人: 芯体素(杭州)科技发展有限公司
主分类号: B29C64/106 分类号: B29C64/106;B29C64/295;B29C64/30;B29C64/20;B29C64/264;B29C64/393;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y40/00;B33Y50/02
代理公司: 浙江金杜智源知识产权代理有限公司 33511 代理人: 蒋力
地址: 310051 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种3D打印制备大高宽比的微透镜阵列的方法:(1)将打印材料通过3D打印方式,打印在基板上,得到微米级别的微透镜液滴阵列;(2)将打印后的基板反向倒置,倒置至液滴高度不再变化;(3)倒置的液滴进行固化,获得具有大高宽比的微透镜阵列。本发明还公开了制备大高宽比的微透镜阵列的装置。本发明通过倒置,让液滴在重力作用下,克服表面张力向下垂落回缩,达到重力和表面张力的平衡状态,提高了液滴高宽比。并且可以通过加热,大幅降低最短倒置时间,进一步提升液滴的高宽比。本发明方法无需复杂的材料处理,降低对材料粘度、表面张力、触变性等特性的要求,增加了打印材料的适用范围,大幅提高了微透镜阵列的均一性。
搜索关键词: 一种 打印 制备 大高宽 透镜 阵列 方法 装置
【主权项】:
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