[发明专利]一种无额外遮光和对位问题的Poly finger制备方法

摘要

本发明提供了一种无额外遮光和对位问题的Poly finger制备方法，本发明方法包括在制备好的多晶硅层上对应Poly finger的区域涂覆接触材料后刻蚀形成的Poly finger结构。采用本发明方法制备的Poly finger区域与接触区域宽度一致，不会存在额外寄生吸收导致的遮光问题，改善了电池的电流，同时Poly finger与接触图形无需进行对位，即不存在对位异常风险，规避了对位异常导致的额外金属复合和电流损失，改善了电池的效率和良率。