[发明专利]晶片承载装置及修复方法在审
申请号: | 202310691132.2 | 申请日: | 2023-06-12 |
公开(公告)号: | CN116525530A | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 张剑桥;康凯;陈术文;陆前军 | 申请(专利权)人: | 广东中图半导体科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01J37/32 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 唐晓晖 |
地址: | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于半导体制造技术领域,公开了一种晶片承载装置及修复方法。该该晶片承载装置包括托盘和盖板,托盘用于承载晶片,托盘包括主体和耐刻蚀功能体,耐刻蚀功能体紧密嵌套在主体的外周侧上;盖板盖设于托盘上并压紧晶片的周缘,晶片的外周壁与盖板的内壁之间具有间隙,间隙的投影位于耐刻蚀功能体上。本发明提供的修复方法,用于对上述的晶片承载装置进行修复。本发明提供的晶片承载装置,通过设置耐刻蚀功能体,在对晶片进行刻蚀处理时,等离子体穿过间隙作用于耐刻蚀功能体,因耐刻蚀功能体具有较好的抗刻蚀性能,其有效减缓了纵向的等离子轰击和横向等离子化学腐蚀,因此延长了托盘的使用时间,进而提高了托盘的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 晶片 承载 装置 修复 方法 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造