[发明专利]晶片承载装置及修复方法在审

专利信息
申请号: 202310691132.2 申请日: 2023-06-12
公开(公告)号: CN116525530A 公开(公告)日: 2023-08-01
发明(设计)人: 张剑桥;康凯;陈术文;陆前军 申请(专利权)人: 广东中图半导体科技股份有限公司
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687;H01J37/32
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 唐晓晖
地址: 523000 广东省东莞市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于半导体制造技术领域,公开了一种晶片承载装置及修复方法。该该晶片承载装置包括托盘和盖板,托盘用于承载晶片,托盘包括主体和耐刻蚀功能体,耐刻蚀功能体紧密嵌套在主体的外周侧上;盖板盖设于托盘上并压紧晶片的周缘,晶片的外周壁与盖板的内壁之间具有间隙,间隙的投影位于耐刻蚀功能体上。本发明提供的修复方法,用于对上述的晶片承载装置进行修复。本发明提供的晶片承载装置,通过设置耐刻蚀功能体,在对晶片进行刻蚀处理时,等离子体穿过间隙作用于耐刻蚀功能体,因耐刻蚀功能体具有较好的抗刻蚀性能,其有效减缓了纵向的等离子轰击和横向等离子化学腐蚀,因此延长了托盘的使用时间,进而提高了托盘的使用寿命。
搜索关键词: 晶片 承载 装置 修复 方法
【主权项】:
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