[发明专利]光刻机用真空系统及光刻机在审
| 申请号： | 202310652656.0 | 申请日： | 2023-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN116661258A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 王鹏;李刚 | 申请（专利权）人： | 世源科技工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京智桥联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11560 | 代理人： | 申庆海 |
| 地址： | 100142 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻机用真空系统及光刻机，系统中，至少一个气液分离装置包括，真空罐，其为密封结构，真空罐内容纳具有第一液面的液体和位于液体上方的气体，抽排管路，其连通真空罐以导入来自光刻机的气液两相流，泵，其连通真空罐以抽吸其中的气体；至少一个液封装置，液封装置容纳具有恒定高度的第二液面的液体，液封装置经由液体导流管路液体连通真空罐以构成连通器，液封装置内具有恒定气压，泵控制真空罐内气压且同时实现控制真空罐内液位。本系统为单排系统，泵控制真空罐内气压且同时实现控制真空罐内液位且可靠性及精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 真空 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于世源科技工程有限公司，未经世源科技工程有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202310652656.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
