[发明专利]用于提升设备抽力的氢气稀释装置及其控制方法在审
| 申请号： | 202310633560.X | 申请日： | 2023-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN116792683A | 公开（公告）日： | 2023-09-22 |
| 发明（设计）人： | 刘銮辉 | 申请（专利权）人： | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | F17D1/02 | 分类号： | F17D1/02;F17D3/01;F17D5/00;B01F23/10 |
| 代理公司： | 杭州融方专利代理事务所(普通合伙) 33266 | 代理人： | 沈相权 |
| 地址： | 311201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于提升设备抽力的氢气稀释装置及其控制方法，所属硅片加工设备技术领域，包括氢气管道，所述的氢气管道上端设有与氢气管道相连通的三通连接管，所述的三通连接管一端设有空气管道，所述的三通连接管另一端设有排放管道，所述的排放管道与三通连接管间设有风机泵，所述的风机泵与三通连接管间设有混合管道。具有结构紧凑、操作便捷和安全可靠性强的优点，解决了H2排不出引起浓度升高甚至爆炸的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提升 设备 氢气 稀释 装置 及其 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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