[发明专利]一种改善膜层均匀性的CSD镀膜结构

摘要

本发明涉及一种改善膜层均匀性的CSD镀膜结构，解决现有的CSD喷淋镀膜装置膜层均匀性不佳的问题。本结构前后两端分别设置放卷轴和收卷轴，放卷轴和收卷轴之间输送CIGS基底，其特征在于：所述放卷轴和收卷轴之间依次设置沉积区、清洗区、风干区，所述沉积区前端的基底上方依次设置去离子水喷杆和硫脲喷杆，所述离子水喷杆的喷口朝后下方倾斜设置，所述硫脲喷杆的喷口竖直朝下设置，离子水喷杆和硫脲喷杆在基底上的喷射落点重叠。本发明将去离子水喷杆和硫脲喷杆的喷淋落点重合，同时通过改进喷杆的喷孔设计，及基底下方的加热块改为石墨加热块，提高了镀膜的均匀性。