[发明专利]一种电解液固定型电化学机械抛光方法、装置与设备在审
申请号: | 202310487880.9 | 申请日: | 2023-04-28 |
公开(公告)号: | CN116442014A | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 杨晓喆;杨旭;蒋庄德 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;B24B37/00;B24B37/11;B24B37/34 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人: | 范巍 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种电解液固定型电化学机械抛光方法、装置与设备,所述电解液固定型电化学机械抛光装置包括抛光头,所述抛光头由微纳米多孔材料制成,所述抛光头包括若干磨粒,所述磨粒通过结合剂固结,所述抛光头分布有若干空孔。在抛光过程中,电解液能够在微纳米多孔材料抛光头的微纳米孔内驻留,而不会溢流,因此可以实现对电解液的控制。当工件表面与抛光头相接触时,工件表面也与抛光头内部驻留的电解液产生局部接触,在电场的作用下,工件表面与电解液接触的区域发生电化学反应,实现局部阳极氧化改性,同时通过抛光头与工件的相对运动,利用磨粒实现对改性层的去除。 | ||
搜索关键词: | 一种 电解液 固定 电化学 机械抛光 方法 装置 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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