[发明专利]一种接触层OPC方法在审
申请号: | 202310487630.5 | 申请日: | 2023-04-28 |
公开(公告)号: | CN116520648A | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 何大权;陈翰;魏芳 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/36 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 尤彩红 |
地址: | 201314*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种接触层OPC方法,包括在接触层目标图形中选择特征OPC图形,并选择相应的第一亚分辨率辅助图形得到第二亚分辨率辅助图形,以特征OPC图形对应的特征目标图形边为目标生成第三亚分辨率辅助图形,根据目标图形和第三亚分辨率辅助图形进行基于模型的OPC,得到最终OPC图形。本发明提供的接触层OPC方法,可以整体提高整体工艺窗口,避免OPC热点的产生,且通过在OPC处理流程中优化亚分辨率辅助图形,改善热点通孔图形的工艺窗口的同时,又不需要重复执行OPC流程,减少OPC方法优化流程及OPC出版时间。 | ||
搜索关键词: | 一种 接触 opc 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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