[发明专利]一种接触层OPC方法

说明书

本发明提供一种接触层OPC方法，包括在接触层目标图形中选择特征OPC图形，并选择相应的第一亚分辨率辅助图形得到第二亚分辨率辅助图形，以特征OPC图形对应的特征目标图形边为目标生成第三亚分辨率辅助图形，根据目标图形和第三亚分辨率辅助图形进行基于模型的OPC，得到最终OPC图形。本发明提供的接触层OPC方法，可以整体提高整体工艺窗口，避免OPC热点的产生，且通过在OPC处理流程中优化亚分辨率辅助图形，改善热点通孔图形的工艺窗口的同时，又不需要重复执行OPC流程，减少OPC方法优化流程及OPC出版时间。

技术领域

本发明属于微电子版图数据光学修正领域，特别涉及一种接触层OPC方法。

背景技术

基于模型的光学临近修正已经广泛应用于接触层的图影转移过程中，通过补偿光学临近效应引起的尺寸偏差，能显著提高接触层的图形转移精度。为了提高接触层的修正精度以及整体工艺窗口，亚分辨率辅助图形被引入到55nm以下技术节点的接触层OPC处理流程中，通过辅助图形增强干涉，改变通孔图形的影像对比度以及归一化影像斜率(NILS)，亚分辨率辅助图形不仅能提高接触层图形的工艺窗口，也通过改变图形的掩膜板误差增强因子(MEEF)，使OPC结果更容易收敛。

亚分辨率辅助图形添加可分为基于规则(Rules-based)的亚分辨率辅助图形添加方法和基于模型(Model based)的亚分辨率辅助图形添加方法，尽管基于模型的亚分辨率辅助图形添加工具具有更高的准确性，然而超长的模拟运算时间导致基于模型的亚分辨率辅助图形添加仍然是辅助方法；因此，在OPC修正处理流程中，基于规则的亚分辨率辅助图形添加方法仍是主要的使用工具。基于规则的亚分辨率辅助图形主要问题之一是对邻近通孔添加辅助图形的冲突，比如斜对通孔，虽然引入一定的规则处理冲突区域的添加规则，然而冲突区域添加规则并不适用于所有的图形结构，因此仍然会产生不同的OPC热点。为了解决OPC热点，必须优化相关通孔图形的亚分辨率辅助图形，并重新执行整个OPC修正处理，这势必增加整体出版时间。

发明内容

本发明的目的在于提供一种接触层OPC方法，以改善热点通孔图形的工艺窗口，减少OPC方法优化流程及OPC出版时间。

为达到上述目的，本发明提供一种接触层OPC方法，包括：

输入接触层的目标图形；

根据目标图形生成第一亚分辨率辅助图形；

根据目标图形和第一亚分辨率辅助图形进行第一次基于模型的OPC修正，得到第一OPC图形；

根据第一OPC图形选择特征OPC图形，并得到特征OPC图形对应的特征目标图形；

根据特征OPC图形和特征目标图形得到第二亚分辨率辅助图形；

根据特征目标图形和第二亚分辨率辅助图形，得到第三亚分辨率辅助图形；

根据目标图形和第三亚分辨率辅助图形进行第二次基于模型的OPC修正，得到第二OPC图形。

在本发明的一种可选地实施例中，所述接触层的目标图形包括正方形通孔图形。

在本发明的一种可选地实施例中，根据目标图形生成第一亚分辨率辅助图形包括：

根据收集的亚分辨率辅助测试图形的硅片数据，建立亚分辨率辅助图形添加规则；

其中，所述亚分辨率辅助图形添加规则包括：标准亚分辨率辅助图形添加规则，以及冲突图形亚分辨率辅助图形添加规则。

在本发明的一种可选地实施例中，所述第一次基于模型的OPC修正为基于正常曝光条件所建立的标准模型进行的OPC修正。

在本发明的一种可选地实施例中，所述特征OPC图形为目标图形经过第一次基于模型的OPC修正后，长宽比大于R的第一OPC图形，其中，1.8＜R＜2.5。