[发明专利]一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法在审

专利信息
申请号: 202310453952.8 申请日: 2023-04-25
公开(公告)号: CN116754492A 公开(公告)日: 2023-09-15
发明(设计)人: 陈修国;钟海硕;张传维;刘世元 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: G01N21/21 分类号: G01N21/21
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 夏倩;李智
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明公开了一种成像椭偏仪测量系统及系统参数校准方法,属于光学仪器测量领域,包括:样品台,用于放置样品;入射光生成模块,用于生成工作波长范围内的平行的入射光;起偏模块,用于调制入射光的偏振态;第一会聚透镜,用于将偏振入射光聚焦于放置于样品,产生反射光;第二会聚透镜,用于将反射光转换为平行光;检偏模块,用于调制平行光的偏振态;光束调整模块,用于将偏振平行光转换为第一出射光束和第二出射光束;图像信息探测模块,用于将第一出射光束调节为单色光后对样品进行成像。本发明能够加快成像椭偏仪系统参数校准的速度,使成像椭偏仪同时具有高横向分辨率的能力和快速校准的能力,从而提高成像椭偏仪整体的测量速度。
搜索关键词: 一种 成像 椭偏仪 测量 系统 参数 校准 方法
【主权项】:
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