[发明专利]背光处理方法、装置、设备及存储介质在审
| 申请号： | 202310440898.3 | 申请日： | 2023-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN116634127A | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 赵天晖;吴新桐;周星;杜鸿川;王剑波;张赫扬;郭越;李宝曼;刘东裕;范子轩 | 申请（专利权）人： | 北京京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司;北京京东方技术开发有限公司 |
| 主分类号： | H04N13/383 | 分类号： | H04N13/383;H04N13/122 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 翟姝红;曹远 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提出一种背光处理方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：获取头部姿态角度和人眼的位置坐标；根据头部姿态角度和人眼的位置坐标，确定注视点在屏幕上对应的第一像素点；根据第一像素点，得到观察区域和非观察区域；对观察区域的像素点和/或非观察区域的像素点的亮度进行调节，以使观察区域相对非观察区域的亮度升高。使得用户观察到的观察区域的亮度相较于非观察区域的亮度得到提升，即用户观看的过程中，能够具有主次感，提升了裸眼3D的层次感和沉浸感。而且非观察区域的像素点远远大于观察区域的像素点的数量，更多的像素点的亮度调低也大幅度降低了功耗和降低了显示模组发热的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 背光 处理 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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