[发明专利]用于化学机械抛光的复合垫在审
申请号: | 202310409770.0 | 申请日: | 2023-04-17 |
公开(公告)号: | CN116922263A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 刘崭;邱南荣;M·E·米尔斯 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
主分类号: | B24B37/24 | 分类号: | B24B37/24;B24B37/26 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋;乐洪咏 |
地址: | 美国特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: |
一种化学机械抛光垫,其包含基本上无孔的抛光层,该抛光层包括包含聚合物基质和包埋在该聚合物基质中的聚合物颗粒的团聚物,其中这些聚合物颗粒以基于该抛光层重量5至35重量百分比的量存在,这些团聚物具有大于1μm的尺寸,这些聚合物颗粒具有比该聚合物基质的拉伸模量更高的拉伸模量。该抛光层是粘弹性的并且具有大于1000Pa |
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搜索关键词: | 用于 化学 机械抛光 复合 | ||
【主权项】:
暂无信息
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