[发明专利]一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置在审
| 申请号： | 202310398569.7 | 申请日： | 2023-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN116497326A | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | 周潜;娄陈旭坤;施仙庆;马震宇;赵文轩;徐锋;左敦稳 | 申请（专利权）人： | 南京航空航天大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/32 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 瞿网兰 |
| 地址： | 210016 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种多靶共沉积的磁过滤镀膜装置，包括：第一阴极电弧源和第二阴极电弧源，所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源分别包含第一靶材和第二靶材，所述第一靶材和第二靶材外围均设有绝缘材料，所述绝缘材料用于防止次放电现；T型磁过滤弯管，所述T型磁过滤弯管入口两端分别与所述第一阴极电弧源和第二阴极电弧源的前端相连接，出口端与真空镀膜腔室的内腔体相连接；真空镀膜腔室室内为真空状态，且包含待镀膜的衬底，所述衬底与阳极源相连接，所述阳极源与负脉冲偏压相连接。本发明通过控制线圈模组中的电流，能够实现单靶材高效沉积以及多靶材共同沉积，结构简单、控制灵活、镀膜效率高、满足多元多层复合涂层制备需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多靶共 沉积 过滤 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
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