[发明专利]表面覆盖有LiF薄膜的钙钛矿薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310317866.4 申请日: 2023-03-28
公开(公告)号: CN116347962A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 陈丹;杨亚洲;叶正澜;刘香全;左玉华;郑军;刘智;成步文 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H10K71/12 分类号: H10K71/12;H10K71/15;H10K71/16;H10K30/00;C23C14/24;C23C14/06;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周天宇
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种表面覆盖有LiF薄膜的钙钛矿薄膜及其制备方法,涉及光电材料技术领域。该方法包括:步骤S1,制得初始钙钛矿薄膜;步骤S2,使用真空热蒸发法在该初始钙钛矿薄膜表面制备LiF薄膜,得到表面覆盖有LiF薄膜的钙钛矿薄膜。
搜索关键词: 表面 覆盖 lif 薄膜 钙钛矿 及其 制备 方法
【主权项】:
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