[发明专利]一种抑制CZT晶体内部富碲夹杂缺陷及提高其电阻率的方法在审

专利信息
申请号: 202310306487.5 申请日: 2023-03-27
公开(公告)号: CN116334764A 公开(公告)日: 2023-06-27
发明(设计)人: 王金斌;雷宇;钟向丽;戴伟;李州;熊欣宇 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: C30B33/02 分类号: C30B33/02;C30B29/46
代理公司: 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11465 代理人: 崔自京
地址: 411105 *** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于CZT晶体改性领域,公开了一种抑制CZT晶体内部富碲夹杂缺陷及提高其电阻率的方法。本发明采用双温区独立控制的卧式退火炉与开管退火相结合的退火方法,并以铟和碲作为退火源,高于富碲夹杂熔点的温度作为退火温度,氮气作为保护气氛,一步完成碲锌镉晶体的退火和元素扩散掺杂处理,以较短的退火时间,实现抑制晶体内部富碲夹杂的同时提高其电阻率的目的。本发明无需焊管处理,操作工序少,石英管可以重复利用,退火周期短,避免了两步法退火繁琐的工艺,效率高成本低,是一种更具实用性的退火方法。
搜索关键词: 一种 抑制 czt 晶体 内部 夹杂 缺陷 提高 电阻率 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湘潭大学,未经湘潭大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310306487.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top