[发明专利]一种溅射镀膜用钛硅合金靶材的制备方法在审

专利信息
申请号: 202310275644.0 申请日: 2023-03-21
公开(公告)号: CN116237528A 公开(公告)日: 2023-06-09
发明(设计)人: 赵少阳;沈垒;李增峰;谈萍;殷京瓯 申请(专利权)人: 西北有色金属研究院
主分类号: B22F9/08 分类号: B22F9/08;B22F3/14;C23C14/34;C22C29/18
代理公司: 西安创知专利事务所 61213 代理人: 马小燕
地址: 710016 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种溅射镀膜用钛硅合金靶材的制备方法,该方法包括:一、将海绵钛与结晶硅混合后用钛箔包裹成合金条或合金块;二、将合金条或合金块置于真空感应熔炼气雾化设备的水冷铜坩埚中进行真空中频感应熔炼形成钛硅合金熔液;三、将钛硅合金熔液从导流系统流至雾化区形成稳定钛硅熔融液柱后开启高压氩气进行破碎雾化制粉得到钛硅合金粉末;四、热压快速烧结得到钛硅合金靶材。本发明利用真空感应熔炼雾化结合热压快速烧结工艺,先制备晶粒细小、洁净度高的TiSi2粉末,进而制备合金化程度和纯度高、成分均匀、结构致密的钛硅合金靶材,适用于镀膜领域,且整个制备流程短、成本低,适宜工业化溅射镀膜生产。
搜索关键词: 一种 溅射 镀膜 用钛硅 合金 制备 方法
【主权项】:
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