[发明专利]基于ZIF-67纳米颗粒原位合成的光热抗菌改性棉布及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202310255055.6 | 申请日： | 2023-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN116556069A | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | 江南;王乾;吕中;刘紫薇;杨浩 | 申请（专利权）人： | 武汉工程大学 |
| 主分类号： | D06M15/687 | 分类号： | D06M15/687;C08G83/00;D06M101/06 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 何佩英 |
| 地址： | 430200 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及纳米材料原位合成及纺织物改性技术领域，具体涉及一种基于ZIF‑67纳米颗粒原位合成的光热抗菌改性棉布及其制备方法和应用。该制备方法在棉布上原位合成ZIF‑67纳米颗粒，得到基于ZIF‑67纳米颗粒原位合成的光热抗菌改性棉布。本发明所提供的制备方法的优点在于工艺简单、生产成本低廉；所制备得到的改性棉布在近红外光(Near Infrared，NIR)照射下温度30s内可达120℃，并在NIR照射3min后杀灭表面99.99％的耐药细菌。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 zif 67 纳米 颗粒 原位 合成 光热 抗菌 改性 棉布 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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