[发明专利]一种双层SiO2在审

专利信息
申请号: 202310243574.0 申请日: 2023-03-14
公开(公告)号: CN116154022A 公开(公告)日: 2023-05-23
发明(设计)人: 姜岩峰;江宁宁 申请(专利权)人: 江南大学
主分类号: H01L31/0392 分类号: H01L31/0392;H01L31/102;H01L27/146
代理公司: 南京禹为知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32272 代理人: 徐陈芸
地址: 214000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种双层SiO2隔离的光电二极管结构、阵列及制造方法,其中一种双层SiO2隔离的光电二极管结构包括,衬底,所述衬底中设置有二氧化硅绝缘层;光电二极管,所述光电二极管设置于所述衬底中,所述光电二极管外设置有二氧化硅隔离层与衬底隔离;本发明的光电二极管阵列显示出更小的漏电电流,更小的噪声,更高的光响应灵敏度,以及与其他器件更好的兼容集成,且具有很强的实用性。
搜索关键词: 一种 双层 sio base sub
【主权项】:
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