[发明专利]光刻定焦系统和光刻设备在审
| 申请号： | 202310234408.4 | 申请日： | 2023-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN116339079A | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | 樊凯;朱红伟;邱盛平 | 申请（专利权）人： | 成都联江科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;G02B13/22;G02B13/00;G02B7/04 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 张娈 |
| 地址： | 610000 四川省成都市中国(四川)自由贸易*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种光刻定焦系统和光刻设备，光刻定焦系统包括自物侧至像侧依次设置有第一透镜组、光阑和第二透镜组，通过两个透镜组的各个透镜的曲率半径、厚度和折射率的设置与相互搭配，使得所述光刻定焦系统形成双远心光学系统，且物方和像方的主波长远心度均控制在±0.1°以内，物方有效视场达到φ22.5mm，物方数值孔径为0.025，像方数值孔径可以达到0.5，理论光刻分辨力可达到0.5μm，所述光刻定焦系统在383±10nm波段透过率较高，优化了公差，降低了装配敏感度，以解决现有光刻镜头的镜片公差严格带来的加工装配以及量产困难问题。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 设备 | ||
【主权项】：
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