[发明专利]一种低损耗铌酸锂波导及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310234071.7 申请日: 2023-03-13
公开(公告)号: CN115951449A 公开(公告)日: 2023-04-11
发明(设计)人: 张磊;王广庆;常林;隋军 申请(专利权)人: 中科鑫通微电子技术(北京)有限公司
主分类号: G02B6/122 分类号: G02B6/122;G02B6/132;G02B6/136;G02B6/13;G02B6/12
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 彭伶俐
地址: 100016 北京市朝阳区酒仙*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及集成光电子学技术领域,尤其涉及一种低损耗铌酸锂波导及其制备方法。低损耗铌酸锂波导包括从下至上依次设置的衬底层、埋氧层、铌酸锂波导层、包覆层和上包层,包覆层包覆于铌酸锂波导层,上包层包覆于包覆层;包覆层的折射率等于铌酸锂波导层的折射率;低损耗铌酸锂波导以衬底层、埋氧层和铌酸锂波导层形成的LNOI基本结构为平台,在铌酸锂波导层上沉积包覆层,能够有效填充和修复LiNbO3波导表面和侧壁的起伏,芯层LiNbO3晶格结构未受破坏,同时设计包覆层的折射率等于铌酸锂波导层的折射率以及控制包覆层的厚度,可以保证大部分光在LiNbO3波导中正常传播,显著降低因波导表面和侧壁粗糙度带来的散射损耗。
搜索关键词: 一种 损耗 铌酸锂 波导 及其 制备 方法
【主权项】:
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