[发明专利]一种结合像散法和莫尔条纹法的大范围高精度对焦装置在审

专利信息
申请号: 202310216931.4 申请日: 2023-03-08
公开(公告)号: CN116203695A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 杨青;金伟正;王智;庞陈雷;林飞宏 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: G02B7/28 分类号: G02B7/28
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 傅朝栋;张法高
地址: 310058 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种结合像散法和莫尔条纹法的大范围高精度对焦装置,属于超精密光学测量领域。本发明装置的作用是实时检测光刻机系统硅片的焦点位置,完成硅片的高精度调焦。检焦装置利用硅片离焦引起的四象限探测器上光斑形状变化完成硅片的大范围粗调焦;利用硅片离焦引起的光栅泰伯自成像周期变化导致的莫尔条纹周期和位相改变,完成硅片的小范围高精度调焦。本发明与现有焦面跟踪装置相比,采用了共轴的检焦方式,极大的扩展了焦面跟踪的范围,同时保证了高精度调焦。
搜索关键词: 一种 结合 像散法 莫尔 条纹 范围 高精度 对焦 装置
【主权项】:
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