[发明专利]抗彩虹纹高透光薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202310204600.9 | 申请日： | 2023-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN116353117A | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 金闯;刘恺民;汪绪;蒋晓明 | 申请（专利权）人： | 太仓斯迪克新材料科技有限公司;江苏斯迪克新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B29D11/00 | 分类号： | B29D11/00;B32B27/36;B32B27/18;B32B27/06;B32B33/00;C08J7/04;C09D133/00;C09D171/00;C09D5/32;C08L67/02;B29L11/00 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人： | 徐晨 |
| 地址： | 215400 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抗彩虹纹高透光薄膜及其制备方法，该方法包括以下步骤：S1、制备纳米高折浆料涂布液和制备表面涂布液：S2、制备主挤树脂和辅挤树脂：S3、铸片：将主挤树脂、辅挤树脂熔融，以两侧为辅挤树脂、中间芯层为主挤树脂共挤，冷却、铸片，得到聚酯铸片基材；S4、拉伸得到聚酯光学膜；S5、制备防指纹涂层：在聚酯光学膜表面喷涂防指纹涂液，得到抗彩虹纹高透光薄膜。本发明中，通过控制基材薄膜的面内延迟以及厚度方向的延迟能够有效的改善光学膜本身存在的光学干涉现象，因此能够减少彩虹纹的出现；本发明可以避免价格高昂的低折颗粒的使用，降低光学膜的成本，同时克服过多颗粒的存在会导致薄膜的机械性能降低的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 彩虹 透光 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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