[发明专利]等离子体射流对撞喷嘴装置有效
| 申请号： | 202310082742.2 | 申请日： | 2023-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN115823619B | 公开（公告）日： | 2023-06-02 |
| 发明（设计）人： | 张倩;车学科;李修乾;韦洋红 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军战略支援部队航天工程大学 |
| 主分类号： | F23R3/28 | 分类号： | F23R3/28;F02C7/22;F02K9/52 |
| 代理公司： | 北京市恒有知识产权代理事务所(普通合伙) 11576 | 代理人： | 郭文浩;尹文会 |
| 地址： | 101407 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及雾化装置技术领域，尤其涉及一种等离子体射流对撞喷嘴装置，旨在解决现有的等离子体装置无法很好地兼顾实现掺混和助燃效果，以及现有的等离子体装置的掺混、助燃的效果不佳，进而导致燃烧效率低的问题。本发明提供的等离子体射流对撞喷嘴装置，包括燃料喷注组件、第一射流组件和第二射流组件；燃料喷注组件设置有燃料喷孔；第一射流组件设置有第一喷孔和第一激励器，第二射流组件设置有第二喷孔和第二激励器；以燃料喷孔的中轴线为参考轴线，第一喷孔的轴线和第二喷孔的轴线均与参考轴线形成夹角；第一喷孔用于将第一激励器产生的等离子体朝参考轴线喷射；第二喷孔用于将第二激励器产生的等离子体朝参考轴线喷射。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 射流 喷嘴 装置 | ||
【主权项】：
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