[发明专利]一种达格列净中间体邻位异构体杂质的制备方法在审
| 申请号： | 202310076559.1 | 申请日： | 2023-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN116283513A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 张均;张华伟;唐红岩;范俊奇;刘思齐 | 申请（专利权）人： | 河南立诺制药有限公司 |
| 主分类号： | C07C41/18 | 分类号： | C07C41/18;C07C43/225;C07C45/64;C07C45/54;C07C49/84;C07C51/60;C07C63/70;C07C67/14;C07C69/76 |
| 代理公司： | 郑州立格知识产权代理有限公司 41126 | 代理人： | 张妍 |
| 地址： | 463000 *** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明提供一种达格列净中间体邻位异构体杂质的制备方法，包括如下步骤：以5‑溴‑2‑氯苯甲酸为起始物料，经过氯代、缩合、重排、乙基化、还原得到达格列净中间体邻异构体杂质5‑溴‑2‑氯‑2’‑乙氧基二苯甲烷，为达格列净原料药的有关物质的研究提供依据。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 达格列净 中间体 邻位异构体 杂质 制备 方法 | ||
【主权项】：
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