[发明专利]电解抛光装置、系统及方法在审

专利信息
申请号: 202310069459.6 申请日: 2023-01-13
公开(公告)号: CN115874262A 公开(公告)日: 2023-03-31
发明(设计)人: 黄彦浩;颜铭瑶;林子敬;余国伟 申请(专利权)人: 得力(中国-香港)有限公司
主分类号: C25F7/00 分类号: C25F7/00;C25F3/16
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王芳
地址: 中国香港新界*** 国省代码: 香港;81
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摘要: 发明公开一种电解抛光装置,涉及电解抛光技术领域,包括电解槽,电解槽用于盛装电解液,电解槽内设置有用于供待抛光工件通过的抛光通道,电解槽内还沿抛光通道的延伸方向设置有阳极板组件和阴极板组件,阳极板组件和阴极板组件之间通过隔板组件隔开;阳极板组件包括相对设置的两个阳极板,两个阳极板分别位于抛光通道的两侧;阴极板组件包括相对设置的两个阴极板,两个阴极板分别位于抛光通道的两侧;隔板组件包括相对设置的两个隔板,两个隔板分别位于抛光通道的两侧;其中,阳极板组件和阴极板组件均能够与电源连接。本发明还公开了电解抛光系统及方法,能够提高待抛光工件的抛光效果和均匀性。
搜索关键词: 电解 抛光 装置 系统 方法
【主权项】:
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