[发明专利]电解抛光装置、系统及方法在审
申请号: | 202310069459.6 | 申请日: | 2023-01-13 |
公开(公告)号: | CN115874262A | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 黄彦浩;颜铭瑶;林子敬;余国伟 | 申请(专利权)人: | 得力(中国-香港)有限公司 |
主分类号: | C25F7/00 | 分类号: | C25F7/00;C25F3/16 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王芳 |
地址: | 中国香港新界*** | 国省代码: | 香港;81 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种电解抛光装置,涉及电解抛光技术领域,包括电解槽,电解槽用于盛装电解液,电解槽内设置有用于供待抛光工件通过的抛光通道,电解槽内还沿抛光通道的延伸方向设置有阳极板组件和阴极板组件,阳极板组件和阴极板组件之间通过隔板组件隔开;阳极板组件包括相对设置的两个阳极板,两个阳极板分别位于抛光通道的两侧;阴极板组件包括相对设置的两个阴极板,两个阴极板分别位于抛光通道的两侧;隔板组件包括相对设置的两个隔板,两个隔板分别位于抛光通道的两侧;其中,阳极板组件和阴极板组件均能够与电源连接。本发明还公开了电解抛光系统及方法,能够提高待抛光工件的抛光效果和均匀性。 | ||
搜索关键词: | 电解 抛光 装置 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于得力(中国-香港)有限公司,未经得力(中国-香港)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310069459.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。