[发明专利]电解抛光装置、系统及方法在审
申请号: | 202310069459.6 | 申请日: | 2023-01-13 |
公开(公告)号: | CN115874262A | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 黄彦浩;颜铭瑶;林子敬;余国伟 | 申请(专利权)人: | 得力(中国-香港)有限公司 |
主分类号: | C25F7/00 | 分类号: | C25F7/00;C25F3/16 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王芳 |
地址: | 中国香港新界*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电解 抛光 装置 系统 方法 | ||
本发明公开一种电解抛光装置,涉及电解抛光技术领域,包括电解槽,电解槽用于盛装电解液,电解槽内设置有用于供待抛光工件通过的抛光通道,电解槽内还沿抛光通道的延伸方向设置有阳极板组件和阴极板组件,阳极板组件和阴极板组件之间通过隔板组件隔开;阳极板组件包括相对设置的两个阳极板,两个阳极板分别位于抛光通道的两侧;阴极板组件包括相对设置的两个阴极板,两个阴极板分别位于抛光通道的两侧;隔板组件包括相对设置的两个隔板,两个隔板分别位于抛光通道的两侧;其中,阳极板组件和阴极板组件均能够与电源连接。本发明还公开了电解抛光系统及方法,能够提高待抛光工件的抛光效果和均匀性。
技术领域
本发明涉及电解抛光技术领域,特别是涉及一种电解抛光装置、系统及方法。
背景技术
电解抛光技术是利用阳极在电解池中所产生的电化学溶解现象,使阳极上的微观凸起部分发生选择性溶解,以形成平滑表面的方法,该技术能透过电极、挡板与工件三者之间的相对位置控制以得到较均匀的电场分布,使抛光工件同时具有较好的表面均匀性与光亮度。
传统的电解抛光技术需以接电方式进行抛光,在处理连续制品时,较不容易控制工件上电流密度的分布,以至于不易控制工件表面的均匀性。
发明内容
本发明的目的是提供一种电解抛光装置、系统及方法,以解决上述现有技术存在的问题,能够提高待抛光工件的抛光效果和均匀性。
为实现上述目的,本发明提供了如下方案:
本发明提供一种电解抛光装置,包括电解槽,所述电解槽用于盛装电解液,所述电解槽内设置有用于供待抛光工件通过的抛光通道,所述电解槽内还沿所述抛光通道的延伸方向设置有阳极板组件和阴极板组件,所述阳极板组件和所述阴极板组件之间通过隔板组件隔开;所述阳极板组件包括相对设置的两个阳极板,两个所述阳极板分别位于所述抛光通道的两侧;所述阴极板组件包括相对设置的两个阴极板,两个所述阴极板分别位于所述抛光通道的两侧;所述隔板组件包括相对设置的两个隔板,两个隔板分别位于所述抛光通道的两侧;其中,所述阳极板组件和所述阴极板组件均能够与电源连接。
优选的,所述阳极板组件和所述阴极板组件均设置有多个,多个所述阳极板组件和多个所述阴极板组件交替设置。
优选的,所述阳极板组件设置有一个,所述阴极板组件设置有两个,两个所述阴极板组件分别位于所述阳极板组件的两侧。
优选的,两个所述阴极板组件与所述电解槽的侧壁之间均设置有所述隔板组件。
优选的,所述电解抛光装置还包括电解液槽,所述电解液槽与所述电解槽连接,用于为所述电解槽提供电解液。
优选的,所述电解液槽位于所述电解槽的下方,并能够包围所述电解槽的底部;所述电解槽沿所述抛光通道延伸方向的侧壁上设置有开口,所述电解槽内的电解液能够通过所述开口落入到所述电解液槽内;所述电解液槽还通过管道以及耐酸泵与所述电解槽连接,能够为所述电解槽提供电解液。
优选的,所述电解槽的底部设置有电解液腔体,所述电解液槽通过所述管道与所述电解液腔体连接,所述电解液腔体的顶部设置有喷流孔,用于向所述电解槽内喷射电解液。
本发明还提供一种电解抛光系统,包括清洗装置和上述的电解抛光装置,所述清洗装置能够对抛光完成后的所述待抛光工件进行清洗。
本发明还提供一种电解抛光方法,采用上述的电解抛光装置,包括以下步骤:
S1、将待抛光工件放入所述抛光通道内,并沿所述抛光通道移动进行抛光;
S2、所述待抛光工件抛光完成后,将其取出。
优选的,所述步骤S2之后还包括以下步骤:
S21、对抛光完成后的所述待抛光工件进行清洗;
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