[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用复合片、套件及保护膜形成膜的应用在审
| 申请号： | 202310060168.0 | 申请日： | 2023-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN116891700A | 公开（公告）日： | 2023-10-17 |
| 发明（设计）人： | 小桥力也 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C09J7/40 | 分类号： | C09J7/40;H01L21/67;C09D175/04;C08G18/62 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 张晶;谢顺星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种保护膜形成膜，其为能量射线固化性的保护膜形成膜，且通过特定的压痕深度的变化率的测定方法测定的压痕深度的变化率为60％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 形成 复合 套件 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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