[发明专利]一种铱单原子修饰的氢氧化钴纳米片及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202310053758.0 申请日: 2023-02-03
公开(公告)号: CN116005193A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 张友魁;高叶丽;罗兆涵;曾俊博;蒲玉娟;段涛 申请(专利权)人: 西南科技大学
主分类号: C25B11/091 分类号: C25B11/091;C25B1/04;C01G51/04;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙) 61223 代理人: 庄华红
地址: 621010 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于催化剂材料技术领域,尤其涉及一种铱单原子修饰的氢氧化钴纳米片及其制备方法和应用,所述方法为:以无定形氢氧化钴纳米片为前驱体,将其均匀分散于水溶剂A中,获得溶液A;向溶液A中加入铱源混合均匀,获得溶液B;将所述溶液B进行紫外光照射处理,使金属铱以单原子形式负载于所述无定形氢氧化钴纳米片上,获得混合物A;将所述混合物A固液分离后,获得固体组分A,对所述固体组分A依次进行洗涤处理、冷冻干燥处理,即获得所述铱单原子修饰的氢氧化钴纳米片。本发明方法操作简单,反应条件温和,能大量合成,节能且节约成本,有利于推广使用。
搜索关键词: 一种 原子 修饰 氢氧化 纳米 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西南科技大学,未经西南科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310053758.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top