[发明专利]一种测量薄膜微纳尺度下热导率的结构及方法有效
| 申请号: | 202310046449.0 | 申请日: | 2023-01-31 |
| 公开(公告)号: | CN115825152B | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
| 发明(设计)人: | 冯延晖;丁若望;施耀华;邱颖宁 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
| 主分类号: | G01N25/20 | 分类号: | G01N25/20;G01N25/18 |
| 代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 封睿 |
| 地址: | 210094 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本发明公开一种用于测量薄膜微纳尺度下热导率的测量结构,测量结构包括一体化的晶片与薄膜、绝缘层、加热测温器。其中薄膜是在同质外延晶片上刻蚀形成,具有较高的晶格质量,使测量结果更接近于真实晶格热导率。薄膜上具有一排镂空微纳米缝,两缝之间的微纳米桥作为传热通道,通过改变微纳米桥的宽度实现对传热尺度的控制。绝缘层和加热测温器依次直接沉积在被测薄膜上,使得接触热阻大大降低,减少了接触热阻带来的测量误差。同时,不需要再将薄膜样品转移到加热测温器上进行测量,简化了操作流程。采用铂、铜铬合金等热电阻作为加热测温器,在真空条件下具有较高的测量精度。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 测量 薄膜 尺度 下热导率 结构 方法 | ||
【主权项】:
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