[发明专利]一种测量薄膜微纳尺度下热导率的结构及方法有效

专利信息
申请号: 202310046449.0 申请日: 2023-01-31
公开(公告)号: CN115825152B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 冯延晖;丁若望;施耀华;邱颖宁 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: G01N25/20 分类号: G01N25/20;G01N25/18
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 封睿
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种用于测量薄膜微纳尺度下热导率的测量结构,测量结构包括一体化的晶片与薄膜、绝缘层、加热测温器。其中薄膜是在同质外延晶片上刻蚀形成,具有较高的晶格质量,使测量结果更接近于真实晶格热导率。薄膜上具有一排镂空微纳米缝,两缝之间的微纳米桥作为传热通道,通过改变微纳米桥的宽度实现对传热尺度的控制。绝缘层和加热测温器依次直接沉积在被测薄膜上,使得接触热阻大大降低,减少了接触热阻带来的测量误差。同时,不需要再将薄膜样品转移到加热测温器上进行测量,简化了操作流程。采用铂、铜铬合金等热电阻作为加热测温器,在真空条件下具有较高的测量精度。
搜索关键词: 一种 测量 薄膜 尺度 下热导率 结构 方法
【主权项】:
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