[发明专利]一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统及方法在审
申请号: | 202310033283.9 | 申请日: | 2023-01-10 |
公开(公告)号: | CN115958897A | 公开(公告)日: | 2023-04-14 |
发明(设计)人: | 肖杨;陈建魁;雷春耀;董甜 | 申请(专利权)人: | 武汉国创科光电装备有限公司 |
主分类号: | B41J3/407 | 分类号: | B41J3/407;B41J11/00;B41J25/308;B41J25/00;B41J29/13;B41J29/393;B41M5/00;B41M7/00 |
代理公司: | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人: | 梁鹏;张彩锦 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术开发*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于新型显示器件制备相关技术领域,并公开了一种用于制备直显模组黑色掩膜的喷印系统,其包括防护罩以及整体放置于该防护罩内部的基板载台、运动平台单元、打印模组、UV固化单元、第一检测单元和第二检测单元。本发明还公开了相应的喷印方法,其中通过结合上述喷印系统的多运动自由度和多功能检测特性,相应可采用开窗打印的方式来提高黑色掩膜的打印成膜效果,同时可引入跟随固化方式来获得不同的打印效果。通过本发明,不仅能够以灵活可控、高效可靠的方式在直显模组上制备形成黑色掩膜,而且可进一步提升包括显示亮度及对比度等指标在内的打印质量,同时可根据不同需求来获得哑光和镜面等效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 模组 黑色 系统 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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