[发明专利]一种同位素示踪流量测井吸水剖面解释方法在审

专利信息
申请号: 202310026022.4 申请日: 2023-01-09
公开(公告)号: CN116044385A 公开(公告)日: 2023-05-02
发明(设计)人: 杨国锋;陈猛;刘向君;刘国权;刘东明;陈强;吴晓龙 申请(专利权)人: 西南石油大学
主分类号: E21B47/11 分类号: E21B47/11;E21B47/00;E21B49/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610500 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明涉及一种同位素示踪流量测井吸水剖面解释方法,主要用于对同位素示踪流量测井采集的示踪伽马谱进行解析,获得井下各处的水流速度从而计算出各吸水层的吸水量。示踪伽马谱中会包含一个或多个示踪峰,示踪峰的峰位对应的深度和时间即为探测器经过示踪剂的深度和时间,利用两个示踪峰的峰位可计算出该处水流速度。本发明采用高斯分布对示踪峰进行表征,首先使用蚁群优化获得示踪峰峰位与峰高的大致估计,之后以该值为初始解,采用单纯形算法对示踪峰参数进行深度优化,获得示踪峰的精确特征参数。通过不同时刻示踪峰参数的相关性结合管柱结构可以判断示踪剂所处的流动空间,再根据时深关系可以判断水流方向,最终实现吸水剖面的解释。
搜索关键词: 一种 同位素 流量 测井 吸水 剖面 解释 方法
【主权项】:
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