[发明专利]一种真空吸附台面有效

专利信息
申请号: 202310020277.X 申请日: 2023-01-05
公开(公告)号: CN116237795B 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 刘星明;刘轩晔;刘士孔;赛志尚 申请(专利权)人: 意特利(滁州)智能数控科技有限公司
主分类号: B23Q3/08 分类号: B23Q3/08;B23Q3/10
代理公司: 滁州创科维知识产权代理事务所(普通合伙) 34167 代理人: 洪余节
地址: 239000 安徽省滁州市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种真空吸附台面,涉及真空吸附台面技术领域,包括基座,基座上方通过支撑柱固定安装有平板;所述平板上竖直滑动安装有若干个贯穿平板的升降台,升降台底面开设有空腔,升降台顶部开设有连通空腔的气孔;所述基座上对应每个升降台的位置均固定安装有气管,升降台套设在对应的气管上,空腔内壁与气管外壁紧密贴合;基座内部开设有连通气管的气道。本发明提供的一种真空吸附台面,通过升降台与工件底面相贴合,并通过气压作用使得工件底面吸合在升降台顶面上;由于升降台可以上下移动,故即使工件底面形状不平整,工件覆盖范围内的升降台也能够吸合在工件底面,保证了吸附的效果。
搜索关键词: 一种 真空 吸附 台面
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