[发明专利]变倍光学系统、光学设备以及变倍光学系统的制造方法在审
| 申请号： | 202280012052.3 | 申请日： | 2022-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN116868104A | 公开（公告）日： | 2023-10-10 |
| 发明（设计）人： | 大竹史哲;幸岛知之;石川贵博 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B15/20 | 分类号： | G02B15/20 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 季莹;方应星 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 变倍光学系统(ZL)由具有负的光焦度的第1透镜组(G1)及具有至少一个透镜组的后组(GR)构成，在进行变倍时，相邻的各透镜组之间的间隔变化，后组(GR)的至少一个透镜组包括最终透镜组(GE)，该最终透镜组(GE)配置于后组(GR)的最靠像侧处且具有正的光焦度，变倍光学系统(ZL)满足以下的条件式：0.15ft/fGE0.60其中，ft：远焦端状态下的变倍光学系统(ZL)的焦距，fGE：最终透镜组(GE)的焦距。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 光学 设备 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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