[发明专利]光测量装置在审
申请号: | 202280012000.6 | 申请日: | 2022-01-13 |
公开(公告)号: | CN116868043A | 公开(公告)日: | 2023-10-10 |
发明(设计)人: | 中村崇市郎;滨田健一 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G01N15/02 | 分类号: | G01N15/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 黄志坚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 提供一种在不同的散射角度或不同的波长下能够简便地测定散射强度的光测量装置。具有低相干干涉仪的光测量装置具有:检测部,其具有第1检测单元及第2检测单元中的至少一个,该第1检测单元使将入射光入射到包含粒子的分散液而得到的散射光中的至少一部分与参考光发生干涉,并检测每个波长的干涉光强度,该第2检测单元使将入射光入射到包含粒子的分散液而得到的散射光中的至少一部分与参考光发生干涉,并检测每个散射角度的干涉光强度;以及转换部,其从由第1检测单元检测出的每个波长的干涉光强度的数据中取出多个分散液的特定的深度且特定的波长的散射强度,或者从由第2检测单元检测出的每个散射角度的干涉光强度的数据中取出多个分散液的特定的深度且特定的散射角度的散射强度,并将取出的散射强度的数据转换为分散液的特定的深度处的散射光的时间波动数据。 | ||
搜索关键词: | 测量 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202280012000.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:集成氧化的二硫化物油添加剂的蒸汽裂化工艺
- 下一篇:轮胎