[实用新型]等离子炬阳极、等离子炬及废气处理装置有效
| 申请号： | 202223533740.0 | 申请日： | 2022-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN219204768U | 公开（公告）日： | 2023-06-16 |
| 发明（设计）人： | 张伟明;孙伟男 | 申请（专利权）人： | 上海盛剑半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;B01D53/32;H05H1/48 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 梁晓婷 |
| 地址： | 201000 上海市嘉定区嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型的实施例提供了一种等离子炬阳极、等离子炬及废气处理装置，涉及等离子炬领域。旨在改善等离子炬电弧不够稳定的问题。等离子炬阳极包括阳极本体；阳极本体设置有贯通第一端以及第二端的电弧通道，电弧通道包括依次连通且同轴设置的至少两个通道段，相邻的两个通道段中，靠近第二端的通道段的直径大于靠近第一端的通道段的直径；相邻的两个通道段的直径比例范围为1/2‑7/10。等离子炬包括等离子炬阳极。废气处理装置包括等离子炬。相邻的两个通道段的直径比例在1/2‑7/10之间时，等离子炬电弧不会产生涡流，可以保持在较稳定状态，也不会有高温区。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 阳极 废气 处理 装置 | ||
【主权项】：
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