[实用新型]切趾光栅制备系统有效
申请号: | 202222251941.5 | 申请日: | 2022-08-25 |
公开(公告)号: | CN218037425U | 公开(公告)日: | 2022-12-13 |
发明(设计)人: | 闫志君;宋青果;肖祥鹏;邹萌;孙琪真 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学无锡研究院 |
主分类号: | G02B6/02 | 分类号: | G02B6/02;G03F7/20 |
代理公司: | 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 | 代理人: | 李平丽 |
地址: | 214174 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及光电子技术领域,尤其是涉及一种切趾光栅制备系统;通过设置工作台、光栅制备单元和调整单元,光栅制备单元包括固定于工作台上的激光生成模块和切趾光栅生成模块,切趾光栅生成模块设置有幅度掩膜板,幅度掩膜板内设置有第一整形图案和第二整形图案,在进行切趾光栅的制备工作时,激光生成模块向幅度掩膜板发射紫外脉冲激光,切趾光栅生成模块先通过第一整形图案对紫外脉冲激光进行一次曝光,完成一次曝光后,调整单元对切趾光栅生成模块调整,使切趾光栅生成模块通过第二整形图案对紫外脉冲激光进行二次曝光,最终形成反射旁瓣抑制率较高的切趾光栅,通过调整单元的设置,可有效减少切趾光栅生成模块的调节时间。 | ||
搜索关键词: | 光栅 制备 系统 | ||
【主权项】:
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