[实用新型]电容结构有效
申请号: | 202222105082.9 | 申请日: | 2022-08-10 |
公开(公告)号: | CN218831252U | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 邹道华;高谷信一郎;刘昱玮;黄仁耀 | 申请(专利权)人: | 常州承芯半导体有限公司 |
主分类号: | H10N97/00 | 分类号: | H10N97/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 张瑞 |
地址: | 213166 江苏省常州市武*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种电容结构,包括:衬底;位于所述衬底上的第一电极层,所述第一电极层在所述衬底上具有第一投影图形;位于所述第一电极层上的第一绝缘层;位于所述第一绝缘层上的第二电极层,所述第二电极层在所述衬底上具有第二投影图形,所述第二投影图形的各边内缩于所述第一投影图形的投影范围内。由于第二电极层的第二投影图形的各边内缩于第一电极层的第一投影图形的投影范围内,因此第一电极层和第二电极层的相对应的各边沿在垂直于所述衬底表面的方向相互错开,避免所述第一电极层和所述第二电极层的边沿放电在垂直于所述衬底表面方向形成正对,减少由于正对的放电击穿所述第一绝缘层的问题,提升所述电容结构的击穿电压和电容结构的可靠性。 | ||
搜索关键词: | 电容 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州承芯半导体有限公司,未经常州承芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202222105082.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种垃圾渗滤液处理系统
- 下一篇:一种晶粒搬运装置