[实用新型]磁流变平面抛光实验平台有效

专利信息
申请号: 202221702556.1 申请日: 2022-07-04
公开(公告)号: CN218254195U 公开(公告)日: 2023-01-10
发明(设计)人: 徐金环;聂蒙;韩玉盼;李建勇 申请(专利权)人: 北京交通大学
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B29/02;B24B41/00;B24B57/02;B24B55/00;B24B47/12
代理公司: 北京市商泰律师事务所 11255 代理人: 邹芳德
地址: 100044 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 实用新型提供一种磁流变平面抛光实验平台,属于磁流变抛光设备技术领域,包括下机架,所述下机架上设有上机架;所述上机架上设有运动滑台机构,所述运动滑台安装架上设有工件卡盘;所述下机架上设有与工件卡盘对应的抛光盘,所述抛光盘由抛光盘驱动机构驱动,所述抛光盘驱动机构安装在所述下机架上;所述下机架内可升降的设有与抛光盘对应的磁场发生机构。本实用新型采用直线模组,降低了制作成本;通过蠕动泵实现磁流变液的循环利用,节约了磁流变液的使用量;结构平整光滑,避免出现尖锐角或突出物等伤害使用人员;运动参数满足设计要求,各构件的安全系数要达到要求;机器的振动和噪声较小,可避免较高的机器表面温度。
搜索关键词: 流变 平面 抛光 实验 平台
【主权项】:
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