[实用新型]磁流变平面抛光实验平台

说明书

本实用新型提供一种磁流变平面抛光实验平台，属于磁流变抛光设备技术领域，包括下机架，所述下机架上设有上机架；所述上机架上设有运动滑台机构，所述运动滑台安装架上设有工件卡盘；所述下机架上设有与工件卡盘对应的抛光盘，所述抛光盘由抛光盘驱动机构驱动，所述抛光盘驱动机构安装在所述下机架上；所述下机架内可升降的设有与抛光盘对应的磁场发生机构。本实用新型采用直线模组，降低了制作成本；通过蠕动泵实现磁流变液的循环利用，节约了磁流变液的使用量；结构平整光滑，避免出现尖锐角或突出物等伤害使用人员；运动参数满足设计要求，各构件的安全系数要达到要求；机器的振动和噪声较小，可避免较高的机器表面温度。

技术领域

本实用新型涉及磁流变抛光设备技术领域，具体涉及一种磁流变平面抛光实验平台。

背景技术

随着精密光学元件玻璃、高表面质量陶瓷等材料、半导体材料等高精密元件在航天、军事等领域的广泛应用，对超精密加工技术的需求显得越来越迫切。这类的高精密元件的表面一般经过铣磨成型、研磨、抛光三道主要工序，抛光作为表面加工的最后一道工序，主要起到降低表面粗糙度，获得高质量表面的作用。抛光工艺的水平决定了工件最终的表面质量，对工件的精密制造程度起到决定性作用。

传统的抛光方法诸如浮法抛光、游离磨料抛光、化学机械抛光等，具有设备简单、工艺条件容易保证的优点。但在实际加工过程中，由于法向力作用较大会在加工表面造成破坏层和变质层，对器件的性能造成很大的影响。

磁流变抛光方法具有加工精度高、抛光效率高、表面亚表面损伤低等特点，尤其是其柔性接触的方式适用于抛光任何几何形状的非导磁元件。其主要抛光原理是利用磁流变液在磁场变化时的流变效应性质，在磁场下发生流变而形成具有黏塑行为的“小磨头”，接触同时相对快速运动的工件，使工件表面受到剪切力，从而去除表面材料达到抛光的目的。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种制造成本低、体积小、结构简单的适用于平面加工的超精密磁流变平面抛光实验平台，以解决上述背景技术中存在的至少一项技术问题。

为了实现上述目的，本实用新型采取了如下技术方案：

本实用新型提供一种磁流变平面抛光实验平台，包括：

下机架，所述下机架上设有上机架；

所述上机架上设有运动滑台机构，所述运动滑台机构上设有工件卡盘；

所述下机架上设有与工件卡盘对应的抛光盘，所述抛光盘由抛光盘驱动机构驱动，所述抛光盘驱动机构安装在所述下机架上；

所述下机架内可升降的设有与抛光盘对应的磁场发生机构。

可选的，所述上机架内部设有运动滑台安装架，所述运动滑台机构安装在所述运动滑台安装架上。

可选的，所述运动滑台机构包括设于所述运动滑台安装架上的X轴同步带直线模组，所述X轴同步带直线模组上设有Y轴同步带直线模组，所述Y轴同步带直线模组上设有Z轴滚珠丝杠直线模组。

可选的，所述X轴同步带直线模组、所述Y轴同步带直线模组均包括设于导轨两端的同步轮以及设于同步轮上的同步带，所述同步带上设有连接滑台。

可选的，所述Y轴同步带直线模组设于所述X轴同步带直线模组的连接滑台上，所述Z轴滚珠丝杠直线模组设于所述Y轴同步带直线模组的连接滑台上。

可选的，所述Z轴滚珠丝杠直线模组的滑台上设有工件卡盘，所述工件卡盘上设有主轴电机，所述工件卡盘设于所述主轴电机的转轴上。

可选的，所述下机架的工作台面上设有抛光盘安装架，所述抛光盘安装架上设有轴承，所述可旋转抛光盘设于所述轴承内。