[实用新型]一种晶圆涂覆处理及清洗设备有效
| 申请号： | 202220493203.9 | 申请日： | 2022-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN217043733U | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 孙海浪;贺苗苗 | 申请（专利权）人： | 江西天漪半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B1/04;F26B21/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 332500 江西省九江市湖*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种晶圆涂覆处理及清洗设备，设备本体，所述设备本体内壁表面设置有固定块，所述设备本体内部设置有存放框，所述存放框外侧表面设置有提手，所述存放框外侧表面设置有限位块。本实用新型中，通过设置存放框、限位块、插接孔、提手、固定块、凹槽和固定柱的配合使用，便于提高对晶圆的清洗效率，同时在存放框的表面贯穿开设有通孔，使得在操作时，工作人员把晶圆投入到存放框内部，之后通过提手把存放框放入到设备本体内部，使限位块表面的插接孔套接在固定柱外侧，从而对存放框进行限位和固定，之后再通过毛刷对存放框内部的晶圆进行清洗即可，在清洗完成后，最后再通过提手整体把晶圆从设备本体内部取出进行下步工序即可。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶圆涂覆 处理 清洗 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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