[实用新型]一种5微米高抗铜箔抛刷装置

摘要

本实用新型提供一种5微米高抗铜箔抛刷装置，涉及电解铜箔制造过程中的抛刷技术领域，包括底座，底座的上端面固定安装有遮尘箱，遮尘箱的内部底部固定安装有收集盒，且收集盒的上端面开设有若干下料口，底座顶端固定安装有收集斗，且收集斗顶端与下料口相通，底座的内部底部固定安装有收集箱，收集箱的顶端与收集斗通过管道相通，收集箱的内部一侧卡合安装有滤网，收集箱的一侧固定安装有风箱，风箱的一侧固定安装有第一电机，第一电机一侧输出端贯穿风箱延伸至内部，并通过联轴器套装有叶轮。该实用新型，能有效提高对铜箔的抛刷效率，并且便于对灰尘和杂质进行收集，具有较高的实用价值。