[实用新型]一种5微米高抗铜箔抛刷装置

说明书

本实用新型提供一种5微米高抗铜箔抛刷装置，涉及电解铜箔制造过程中的抛刷技术领域，包括底座，底座的上端面固定安装有遮尘箱，遮尘箱的内部底部固定安装有收集盒，且收集盒的上端面开设有若干下料口，底座顶端固定安装有收集斗，且收集斗顶端与下料口相通，底座的内部底部固定安装有收集箱，收集箱的顶端与收集斗通过管道相通，收集箱的内部一侧卡合安装有滤网，收集箱的一侧固定安装有风箱，风箱的一侧固定安装有第一电机，第一电机一侧输出端贯穿风箱延伸至内部，并通过联轴器套装有叶轮。该实用新型，能有效提高对铜箔的抛刷效率，并且便于对灰尘和杂质进行收集，具有较高的实用价值。

技术领域

本实用新型提供一种5微米高抗铜箔抛刷装置，涉及电解铜箔制造过程中的抛刷技术领域，更具体地说，特别涉及一种5微米高抗铜箔抛刷装置。

背景技术

5微米高抗拉铜箔，是用于动力电池电芯上的负极集流体材料，在电解生箔时，铜箔是从硫酸铜电解液中通过电化学反应，并在阴极辊上沉积成铜箔后剥离，因为电镀过程中会出现析氢或析氧反应，电镀一段时间后阴极辊局部会出现氢化或氧化，严重时会影响铜箔品质，所以铜箔在生产时需要对其进行刷洗和抛光，因此会使用到抛刷装置对铜箔进行抛光。

基于上述，本发明人发现存在以下问题：现在的铜箔在进行抛光的时候会产生废屑，如果不进行处理，会影响铜箔的品质。

于是，有鉴于此，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提供一种5微米高抗铜箔抛刷装置，以期达到更具有更加实用价值性的目的。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种5微米高抗铜箔抛刷装置，以解决现在的铜箔抛光时废屑无法处理的问题。

本实用新型5微米高抗铜箔抛刷装置的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

一种5微米高抗铜箔抛刷装置，包括底座，所述底座的上端面固定安装有遮尘箱，所述遮尘箱的内部底部固定安装有收集盒，且所述收集盒的上端面开设有若干下料口，所述底座顶端固定安装有收集斗，且所述收集斗顶端与下料口相通，所述底座的内部底部固定安装有收集箱，所述收集箱的顶端与收集斗通过管道相通，所述收集箱的内部一侧卡合安装有滤网，所述收集箱的一侧固定安装有风箱，所述风箱的一侧固定安装有第一电机，所述第一电机一侧输出端贯穿风箱延伸至内部，并通过联轴器套装有叶轮。

进一步的，所述遮尘箱的内部两侧均开设有活动槽，所述活动槽的内部均滑动安装有轴承座，一对所述轴承座之间套装有第一打磨辊。

进一步的，所述遮尘箱内部在靠近轴承座的底侧嵌设安装有轴承，并在轴承之间套装有第二打磨辊。

进一步的，所述遮尘箱内部在靠近轴承座的一侧均嵌设安装有一对轴承，并在两侧轴承之间均套装有刷辊。

进一步的，所述活动槽的内部顶端均固定安装有活塞杆，所述活塞杆的底部均与轴承座固定连接，所述活塞杆上均套装有弹簧。

进一步的，所述刷辊的一端均套装有齿轮，一对所述齿轮之间相互啮合。

进一步的，所述遮尘箱的一侧固定安装有隔板，所述隔板的顶端固定安装有第二电机，所述第二电机的一侧输出端与其中一个齿轮传动连接。

进一步的，所述轴承座的一侧固定安装有第三电机，所述第三电机的一侧输出端与第一打磨辊传动连接，所述遮尘箱在靠近第三电机的底侧固定安装有第四电机，所述第四电机一侧输出端与第二打磨辊传动连接。

进一步的，所述遮尘箱的顶端固定安装有脉冲阀，所述遮尘箱的内部顶端固定安装有喷嘴管，所述脉冲阀与喷嘴管之间通过管道连接。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：