[实用新型]一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置有效

专利信息
申请号: 202220161971.4 申请日: 2022-01-21
公开(公告)号: CN216696984U 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: 张玥 申请(专利权)人: 张玥
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H05G2/00
代理公司: 沈阳科威专利代理有限责任公司 21101 代理人: 胡野
地址: 110000 辽宁省*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型公开了一种用于光刻机的EUV辐射源产生装置,包括传送带;其特征在于:还包括EUV辐射源产生单元、清洗单元、燃料注入单元、真空控制单元;所述EUV辐射源产生单元包括反光杯和激光器;在传送带的带体上设置有通光孔,在通光孔内设置有激光晶体,在激光晶体上部设置有涂层,在涂层上设置有多个微米孔,在微米孔内设置有可产生极紫外光的燃料;所述清洗单元包括碎片清洗腔和蒸汽喷头;所述燃料注入单元包括燃料注入腔和高压喷嘴;在燃料注入腔前部设置有第一机械臂和辅助光源,在燃料注入腔后部设置有第二机械臂。本实用新型有效实现了装置的连续运行,保证了燃料加注的可靠,提高了装置的产生效率,同时达到提高光刻精度的目的。
搜索关键词: 一种 用于 光刻 euv 辐射源 产生 装置
【主权项】:
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