[实用新型]一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置有效
| 申请号： | 202220047969.4 | 申请日： | 2022-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN216901326U | 公开（公告）日： | 2022-07-05 |
| 发明（设计）人： | 于洋;王华;江建国 | 申请（专利权）人： | 浙江鑫柔科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 孔令娟 |
| 地址： | 314500 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，包括：第一固定治具、第一掩膜光罩、第二固定治具和真空泵；所述第一固定治具用于装载所述第一掩膜光罩并与所述真空泵连接；所述第一固定治具上设置有第一镂空部；所述第一掩膜光罩的第一侧面通过真空吸附在所述第一镂空部的框架内表面上；所述第一固定治具的内表面与所述第二固定治具的内表面通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩的第二侧面与所述第二固定治具的内表面之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材。本实用新型能够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 柔性 基材 真空 接触 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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